11月4日，俄罗斯以霸气精神向全球宣告：正在致力于研发光刻机，并肯定将在2024年有所突破。俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示，按照国内研发进程估计，2024年将推出350nm光刻机，2026年将启动将生产130nm制程黝片的光刻设备。
不得不承认，世界光刻机的生产目前仅有两大巨头厂商占据市场——日本尼康和荷兰ASML，俄罗斯此次的行动无疑表明了他们决心改变这份全球格局。虽然俄罗斯已经摸索到了运用外国制造设备的65nm技术，但无法具备完全自主生产光刻机的能力。受限于外国政策禁止向俄罗斯出口 高级光刻设备，俄方被迫加快步伐开发国产生产设备。
为了实现这一目标，俄罗斯早在之前就开始发力。据了解，圣彼得堡理工大学的研究人员成功研发出一种被称为“国产光刻复合体”的专属设备，具备蚀刻生产无掩模芯片的能力。这将使得“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”梦想变得有可能。据介绍，国内光刻复合体中的一个工具成本为500万卢布（当前约36.3万元人民币），而另一工具的成本尚未公开。
开发团队表示，传统光刻技术需要依靠专门的掩膜板来获取芯片的图像。而他们研发的新设备则由专业软件控制，完全实现了功能全自动化，另外一台设备可以被直接用于形成纳米结构，同时也可以制作硅膜，例如用于舰载超压传感器等领域。
俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构也表现得相当自信，宣称科学院旗下的应用物理研究所将在2028年像翻开巨大惊艳的礼物盒子一样，震惊全世界，开发出可以生产7纳米芯片的光刻机，并有信心击败ASML同类产品。以此来看，俄罗斯在光刻机领域的研发势头浓厚，全球格局或许将发生翻天覆地的变化，让我们拭目以待。（文/小光）
